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类别:行业资讯   发布时间:2023-11-01 15:44:40   浏览:

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  刻蚀行业观点(电子首席分析师吴文吉):刻蚀是半导体器件制造中选择性地移除沉积层特定部分的工艺。在半导体器件的整个制造过程中,刻蚀步骤多达上百个半岛综合体育,是半导体制造中最常用的工艺之一。新电子材料的集成和加工器件尺寸的不断缩小为刻蚀设备带来了新的技术挑战半岛综合体育,同时对性能的要求(刻蚀均匀性、稳定性和可靠性)越来越高。分别从逻辑器件和存储器件的技术演进路线纳米及以下的逻辑器件生产工艺中,一体化大马士革刻蚀工艺,需要一次完成通孔和沟槽的刻蚀,是技术要求最高、市场占有率最大的刻蚀工艺之一。存储器件2D到3D的结构转变使等离子体刻蚀成为最关键的加工步骤。在存储器件中,极高深宽比刻蚀是最为困难和关键的工艺,是在多种膜结构上,刻蚀出极高深宽比(

  40:1)的深孔/深槽。刻蚀设备市场情况:微缩化+3D化,推动刻蚀用量增加;根据Gartner统计,2022年全球刻蚀设备占晶圆制造设备价值量约22%,约230亿美元市场规模。刻蚀设备呈现日美厂商头部集中、中国厂商崛起的竞争格局。

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